本標準規(guī)定了真空鍍膜顯現(xiàn)手印技術的原理、設備、鍍膜材料及實驗室環(huán)境要求、顯現(xiàn)準備、操作步驟及注意事項等。本標準適用于顯現(xiàn)大多數(shù)非滲透性及部分半滲透、滲透性客體表面潛在手印，包括部分“502”膠熏顯后的客體等。